一、產(chǎn)品名稱：鈦鍛件、鈦方塊、鈦塊
1、牌號(hào)、規(guī)格、狀態(tài)
牌號(hào)：TA1、TA7、TA9、TA10、TA15、TA18、TA19、TC4、TC6、TC11、TC18、TB6
規(guī)格：φ50--1200mm×L 30----600mm
交貨狀態(tài)：退火態(tài)（M） 熱加工狀態(tài)（R） 冷加工狀態(tài)（Y）(退火，超生波探傷)。
加工工藝：熔煉-探傷--鍛造--退火—車光—探傷。
金相組織：晶相組織級(jí)別可提供A3—A4。
標(biāo)準(zhǔn)：GB/T16598-1996，GB/T13810-2007, GB/T2965-2007，ASTM B381，ASTM B348, ASTM F67,ISO5832-2ASTM F136, ISO5832-3, AMS4928, MIL4911。
應(yīng)用領(lǐng)域 ：鈦塊主要應(yīng)用于醫(yī)療、航空、軍工、石油化工、冶金、電鍍、真空鍍膜、體育等行業(yè)。
注：經(jīng)雙方協(xié)商可以供應(yīng)其他規(guī)格或型式的產(chǎn)品。
2、尺寸允許偏差(mm)
餅直徑 | 偏差 | 截面高度 | 偏差 |
| 150~300 | +3-1 | 35~140 | +3-1 |
| >300~500 | +3-1 | 35~150 | +3-1 |
| >500~1200 | +3-1 | 40~110 | +4-2 |
| ---------- | ---------- | ---------- | ---------- |
3、室溫力學(xué)性能
牌號(hào) | 截面積cm2 | 室溫力學(xué)性能，不小于 |
| 抗拉強(qiáng)度 σb,MPa | 規(guī)定殘余伸長(zhǎng)應(yīng)力 Σr0.2MPa | 伸長(zhǎng)率 δ5,% | 斷面收縮率ψ,% |
| TA0 | ≤100 | 280 | 170 | 30 | 35 |
| TA1 | 370 | 250 | 20 | 35 |
| TA2 | 440 | 320 | 18 | 35 |
| TA3 | 540 | 410 | 15 | 30 |
| TA9 | 370 | 250 | 20 | 30 |
| TA10 | 485 | 345 | 18 | 25 |
| TC4 | 895 | 825 | 10 | 25 |
| TC11 | 1030 | 900 | 10 | 30 |
注：
1、表中意外產(chǎn)品，需方需要測(cè)定室溫力學(xué)性能時(shí)，指標(biāo)應(yīng)經(jīng)雙方協(xié)商并在合同中注明。
2、需方要求測(cè)定TC4鈦合金高溫力學(xué)性能時(shí)，其實(shí)驗(yàn)溫度及性能指標(biāo)應(yīng)經(jīng)雙方協(xié)商并在合同中注明。
二、產(chǎn)品名稱：鎳靶材、鎳旋轉(zhuǎn)靶
牌號(hào)：N6, N4
用途：用于半導(dǎo)體分離器件、平面顯示器、儲(chǔ)存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，玻璃鍍膜工業(yè)等。
三、產(chǎn)品名稱：鉻靶材、鉻靶塊
產(chǎn)地：寶雞
銘含量 : 99.5%
雜質(zhì)含量： 0.5%
重量 ：不等( kg/塊）
用途：鉻靶材用于半導(dǎo)體分離器件、平面顯示器、儲(chǔ)存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，玻璃鍍膜工業(yè)等領(lǐng)域。
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