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制造的金屬鍍膜工藝中，日本的日礦材料公司生產高純鈦濺射靶、銅、鉭、鈷、鎢、鎳等高純金屬以及合金靶、鈦硅化物靶等，供給全世界的半導體廠家。高純濺射鈦靶材主要是用做鋁配...

新型的濺鍍設備幾乎都使用強力磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍的氬氣離子化，造成靶與氬氣離子間的撞擊機率增加，提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍，而不導電的...

鈦法蘭廠家對法蘭熱加工，主要是鍛造、軋制和擠壓是鈦法蘭半成品及產品的基本生產手段。鑒于鈦法蘭組織結構對熱加工工藝具毛根強的敏感性，因此正確選擇和掌握工藝參數不僅對保...

眾所周知，鈦靶材的技術發展趨勢與靶材的制備發展趨勢息息相關，隨著應用產業在薄膜產品或元件上的技術改進，靶材技術也應隨之變化。下面就跟著凱澤金屬起來了解下靶材的制備方法...

高純濺射靶材是伴隨著半導體工業的發展而興起的，濺射靶材市場不僅僅在于電子行業，近年來砍濺射靶材的市場規模正在悄然發展，下面就讓我們起來了解下濺射靶材的難點及市場空間。...

濺射鈦靶材在使用過程中有較高的要求，不僅要求純度、尺寸，甚至還有晶粒尺寸均勻性等，這些高要求使得我們在使用濺射靶材時更加要注意。下面就讓我們去了解下濺射靶材在使用過程...

目前，鈮靶、鉻靶的制備主要包括特殊的熔融法和粉末冶金法。特殊的熔化方法：將具有一定組成比的合金原料熔化，然后將合金溶液倒入模具中形成鑄錠，最后機加工成目標材料。 鈮靶、...

2019年9月13日凌晨，相信很多“果粉”都會在手機屏幕前守著觀看蘋果發布會。這次發布會蘋果手機推出了三款新產品，它在眾多手機品中，憑借各種優勢脫穎而出，但你們知道么，其實手機...

靶材的鍍膜凱澤金屬在之前的文章中簡單講過，在濺射的過程中，對靶材的質量相比于傳統的材料行業來說，要求較為高些。在“靶材質量對大面積鍍膜生產的三大影響” 本文中，凱澤金屬...

金屬靶材是指用在高速荷能粒子轟擊的目標材料。并且通過更換不同的靶材（如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。而隨著時代的發展，越...

銅靶材目前廣泛應用于電子、通信、超導、航天等領域，并且銅靶材價格低廉，使得其成為真空鍍膜行業中的主力軍。由于真空鍍膜行業的限制，對銅靶材的尺寸和形狀要求嚴格，因而必須嚴...

濺射靶材在隨著使用率的增加，表面可能會附著有殘留物，如粉塵、油污、氧化物等，繼而靶材表面有不同程度的結瘤，產品質量也會有所下降，導致生產成本增加。因此，需要濺射靶材進行充分...

鈦合金比重小、熔點高（1600℃左右）、塑性好，具有比強度高、耐蝕性強，能在高溫下長期工作等優點，因而已經越來越多地用作飛機和飛機發動機的重要承載部件，除了鈦合金材料的鍛件外，還...

濺射靶材是通過離子轟擊靶材表面，靶材的原子被擊出，此現象稱為濺射。濺射靶材在濺射過程中產生的原子沉積在基體表面成膜被稱為濺射鍍膜，然而在濺射鍍膜時膜層經常會有不少問題...

靶材磁控濺射的沉積率也就是沉積的速率，是指沉積物對可容空間充填的速度。濺射沉積率不僅是成膜速度的一個重要參數，也是對靶材成膜的特性，如牢固度。薄膜應力、表面光潔度等有...

鍍膜靶材上的薄膜是一種特殊的物質形態。在厚度這個特定方向上尺寸很小，是一個微觀可測的量，而且薄膜厚度由于表面和界面的存在，使物質連續性發生終端，使得薄膜材料與靶材材料產...

鈦靶鎳靶等靶材在使用過程中，其表面逐漸會產生一種黑色顆粒狀物質，我們稱之為黑化物，或是說靶材中毒。靶材黑化中毒容易產生諸多問題，影響產品的質量。因此分析靶材黑化中毒的原...

靶材是制備薄膜的主要材料之一，被廣泛應用于電子及信息產業，如液晶顯示屏、集成電路、平板顯示等等，對材料的純度和穩定性要求較高。更換不同的靶材，即可得到不同的膜系。凱澤金...

鈦靶、鉻靶、鋯靶、鎳靶等合金濺射靶材的要求比其他材料要高，除了如純度、尺寸、各項雜質含量、缺陷控制等一般要求外，還有表面粗糙度、成份與組織均勻性、異物（氧化物）含量與尺...

硬質涂層是通過氣相沉積法，在硬質合金刀片表面上涂覆耐磨的碳化鈦、氧化鋁等薄層，從而形成表面涂層硬質合金，這種涂層材料耐磨性好，耐腐蝕，且耐高溫氧化，在切削刀具和耐磨零部件等...

對于需要制備不同尺寸的靶材所采用的制備方法也不一樣，比如制備小尺寸的靶材，常用的是粉末熱等靜壓法以及粉末壓制燒結法。那么對于大尺寸的靶材制備各種表面強化和表面防護涂...

磁控濺射是制備薄膜材料的關鍵技術，而鈦靶材是這項技術中需要使用的鍍膜材料?，F在很多行業，如集成電路，裝飾鍍膜行業、平面顯示等都需要用到磁控濺射技術，這些行業對于產品的質...

隨著產業技術的發展，工業生產需要高質量的靶材產品，因為靶材的質量直接影響著磁控濺射薄膜的性能，目前，企業一般在購買靶材上更偏向用成分結構均勻的高密度靶材進行濺射鍍膜，以減...

濺射鉬靶材因其自身優點，已經在電子行業、太陽能電池、玻璃鍍膜等方面得到了廣泛的應用。隨著現代科技微型化、集成化、數字化、智能化的快速發展，鉬靶材的用量將持續增長，對其...

鈦靶鎳靶靶材作為磁控濺射系統中的陰極，為制備沉積薄膜提供物質來源，其組織結構和性能的差異對薄膜的組織結構和性能也應該具有密切聯系。靶材的制作方法之一粉末冶金法中，需要...

大家都知道鈦鎳鋯鉻濺射靶材的規格很多，而且應用行業也很廣泛，不同行業常用的靶材種類也有所不同，今天我們就隨凱澤金屬一道來了解濺射靶材的行業分類的相關知識吧！一、濺射靶材...

大家都知道靶材分為很多種，比如合金，氧化物，銅、鋁、不銹鋼、鎳、鈦等金屬，而根據金屬的不同，需要用到各種不同的靶材制備方法，凱澤金屬結合相關資料，整理如下：濺射靶材的不同工藝方...

為了降低旋轉磁控濺射靶材的成本，提高靶材利用率，靶材廠家和學者共同對靶材結構進行了研究。研究結果表明，通過調整中心磁體和外磁體的位置，能有效提高鈦靶材利用率和靶材的刻蝕...

AZO靶材是其中一種制造高科技節能玻璃鍍膜材料，用于用于物理鍍膜中的濺鍍，除了AZO靶材，還有金屬靶材和陶瓷靶材。陶瓷旋轉靶材采用燒結及綁定工藝，可生產較好大長度4000mm，單節較...

陶瓷靶材的種類及其應用隨著電子產業的發展，高技術材料逐漸向薄膜轉移，鍍膜期間隨之發展迅速，靶材是一種具有高附加值的特種電子材料，是濺射薄膜材料的源較。陶瓷靶材作為非金屬...

1、化工行業：整體法蘭(IF)、螺紋法蘭(Th)、板式平焊法蘭(PL)、帶頸對焊法蘭(WN)、帶頸平焊法蘭(SO)、承插焊法蘭(SW)、對焊環松套法蘭(PJ/SE)、平焊環松套法蘭(PJ/RJ)、襯里...

鈦合金TC4材料的組成為Ti-6Al-4V，屬于(α+β)型鈦合金，具有良好的綜合力學機械性能。比強度大。TC4的強度sb=1.012GPa，密度g=4.4*103，比強度sb/g=23.5，而合金鋼的比強度sb/g小于1...

鋯和鈦具有許多類似的物理、化學性能。例如他們的熔點都很高，純鈦： 1668 ℃，純鋯： 1852 ℃。鋯和鈦的化學活性都很高，而且鋯比鈦更高，但表面都能形成致密的鈍化膜，具有很高的耐蝕性...

靶 材 主 要應 用 于 電 子及 信息 產 業 ，如 集 成 電路 、信息 存 儲 、液晶顯示屏、太陽能電池、電子控制器件等領域。隨著集成電路、太陽能和平面顯示器產業的發展，靶材的...

鍍膜方法真空蒸鍍濺射鍍離子鍍化學反應鍍可鍍物質金屬金屬某些化合物金屬、合金、化合物、陶瓷、高分子物質金屬、合金、陶瓷、化合物膜材蒸發方式真空蒸鍍真空濺射蒸鍍、濺...

由于磁控濺射鐵磁性靶材的難點是靶材表面的磁場達不到正常磁控濺射時要求的磁場強度，因此解決的思路是增加鐵磁性靶材表面剩磁的強度，以達到正常濺射工作對靶材表面磁場大小的...